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中芯国际是国内芯片制造技术最先进的厂商,能够量产14nm及以上工艺的芯片,良品率也达到了世界领先水准。

中芯国际还完成了7nm研发任务,5nm工艺正在研发中,N+1工艺的芯片已经小规模试产,并达到了预期效果。

意外的是,中芯国际却突然在官网上,找不到14nm及以下芯片代工信息,官网显示最高工艺仅有28nm,还能代工28nm以上工艺的芯片。

但却有外媒表示,中芯国际的举动意味深长。

首先,中芯国际目前的营收主要来自28nm以上工艺,根据中芯国际的财报可知,28nm/14nm工艺贡献了18%的营收。

中芯国际突然下线14nm工艺介绍,很大可能就是将7/14nm纳入了28nm工艺中,毕竟,来自这两种工艺的订单不多。

另外,美不断修改芯片规则,还签订三方协议,限制日本出货23种半导体材料和设备,限制荷兰出货主流的DUV光刻机。

这也导致中芯国际无法像预想中那样,扩大14nm及以下工艺的产能,更何况,美还欲切断先进工艺的供应。

中芯国际突然下线14nm工艺介绍,也是为了减少一些不必要的麻烦,懂的都懂。

其次,消息称,中芯国际14nm订单基本都是来自国内一家厂商,该厂商知名度还比较高,芯片规则修改早期,其就已经14nm订单部分转移给中芯国际。

今年早些时候,该品牌一口气发布了多款手机,其中一款中低端手机,其就采用了自研的芯片,该芯片采用的仍是14nm,这意味着是库存芯片的可能性不大。


另外,很多产品仍是采用14nm工艺,像5G基站、物联网汽车、智慧屏、服务器等。

但美持续修改规则,限制更多厂商出货,国内厂商都在低调发展,甚至是尽可能地减少对进口芯片的依赖,今年前三个月就减少了300亿颗左右。

最后,更先进的工艺方面,中芯国际技术上基本是没有什么问题的,毕竟,梁孟松仍在职,早就宣布完成了7nm研发任务,N+1工艺也实现了小规模试产。

但没有更多的消息,可能是因为美不断修改芯片规则,国内厂商在低调发展,主因还是缺少相关设备和原材料。

虽然DUV光刻机也能够量产7nm芯片,但需要多重曝光工艺,这不仅增加芯片制造难度,还无法保证良品率和成本,再加上DUV光刻机数量有限,产能也上不去。

关键是,中芯国际曾明确表示,28nm等工艺的风险率不断降低,从这一点来看,中芯国际也在求稳,想在芯片生产制造方面更多采用国产设备和材料。

不过,华为等国内厂商已经联合在突破技术封锁,已经实现了14nm以上EDA工具等国产化,今年将全面验证。

再加上,上海微电子28nm精度的光刻机已经取得技术验证,AFr光刻胶已经开始进入测试阶段,未来肯定逐渐降低7/14nm等工艺的风险,从而实现全面国产化。

就目前而言,中芯国际已经一路向好了,2023年资本开支稳定,28nm等成熟工艺又占领了先进,来自国内订单占比高达75%,未来自然会更好。

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